備受半導體界與法界關注的台積電「2 奈米及 14 埃米」製程洩密案,智慧財產及商業法院於今(27)日一審宣判。主謀陳力銘被重判有期徒刑 10 年,成為《國家安全法》修法加重竊取核心關鍵技術罪責後的首件判決。涉案企業東京威力科創(TEL)雖獲緩刑,但須向台積電及公庫支付共計 1.5 億新台幣。
核心關鍵技術外流,國安法修法後首例判決
本案起源於台積電 12 廠良率部門前工程師陳力銘。檢方調查發現,陳力銘於民國 112 年跳槽至半導體設備商東京威力科創(TEL)擔任產品經理後,為提升新東家的蝕刻機台表現,以便爭取台積電 2 奈米 及 14 埃米(埃米為奈米之後的下一代技術節點)等先進製程的訂單,竟勾結台積電在職工程師進行系統性竊密。
法院新聞稿指出,陳力銘利用學緣與舊情,指使在職工程師吳秉駿、戈一平及陳韋傑,利用職務之便登入內網,翻拍、重製關鍵技術參數。其中,陳韋傑提供的技術資訊涉及台積電在全球領先地位的關鍵「14 埃米」製程,影響國家經濟安全甚鉅。
東京威力積極和解獲緩刑
在法人責任部分,這是台灣首例法人因涉犯《國安法》被起訴的案件。法院認定東京威力未盡到對員工的監督義務,因此判處需向台積電支付 1 億元,並向國庫支付 5,000 萬元